A. 低能電子衍射
這里有講解
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低能電子衍射
low energy electron diffraction
低能電子衍射(LEED)，是將能量為5～500eV范圍的單色電子入射於樣品表面,通過電子與晶體相互作用,一部分電子以相干散射的形式反射到真空中，所形成的衍射束進入可移動的接收器進行強度測量，或者再被加速至熒光屏，給出可觀察的衍射圖像,見圖1。圖中，第一柵接地，使衍射電子自由飛過樣品和柵之間的空間；第二柵加幾十伏負電壓，可濾去非彈性散射電子。熒光屏施加千伏高壓，使電子有足夠的能量激發熒光物質。由於物質對電子的散射比對 X射線的散射強很多，使低能電子具有很高的表面靈敏度。雖然在1927年C.J.戴維孫和L.H.革末發現了LEED，但因多重散射帶來了技術上和理論上的復雜性，使低能衍射的實際應用推遲了40年。直到70年代以後，在超高真空技術發展的基礎上，才使此技術獲得新生。
B. 低能電子衍射圖案反應的表面范圍是多大
電子衍射和X射線衍射一樣，可以用來作物相鑒定、測定晶體取向和原子位回置。
由於電子衍答射強度遠強於X射線，電子又極易為物體所吸收，因而電子衍射適合於研究薄膜、大塊物體的表面以及小顆粒的單晶。
此外，在研究由原子序數相差懸殊的原子構成的晶體時，電子衍射較X射線衍射更優越些。
會聚束電子衍射的特點是可以用來測定晶體的空間群（見晶體的對稱性）。
採用波長小於或接近於其點陣常數的電子束照射晶體樣品，由於入射電子與晶體內周期地規則排列的原子的交互作用，晶體將作為二維或三維光柵產生衍射效應，根據由此獲得的衍射花樣研究晶體結構的技術，稱為電子衍射。
這是1927年分別由戴維孫（C.T.Davison）和革末（L.H.Germer），以及湯姆孫（G.P.Thomson）獨立完成的著名實驗。
和X射線衍射一樣，電子衍射也遵循勞厄（M.vonLaue）方程或布喇格（W.L.Bragg）方程。
由於電子與物質的交互
電子衍射作用遠比X射線與物質的交互作用強烈，因而在金屬和合金的微觀分析中特別適用於對含少量原子的樣品，如薄膜、微粒、表面等進行結構分析。
C. 選區電子衍射 低能電子衍射 相同嗎
光闌選區來衍射是是通過源物鏡象平面上插入選區光闌限制參加成象和衍射的區域來實現的。另外，電鏡的一個特點就是能夠做到選區衍射和選區成象的一致性。選區衍射操作步驟： 為了盡可能減小選區誤差，應遵循如下操作步驟： 1. 插入選區光欄，套住欲分析的物相，調整中間鏡電流使選區光欄邊緣清晰，此時選區光欄平面與中間鏡物平面生重合； 2. 調整物鏡電流，使選區內物象清晰，此時樣品的一次象正好落在選區光欄平面上，即物鏡象平面，中間鏡物面，光欄面三面重合； 3. 抽出物鏡光欄，減弱中間鏡電流，使中間鏡物平面移到物鏡背焦面，熒光屏上可觀察到放大的電子衍射花樣 4. 用中間鏡旋鈕調節中間鏡電流，使中心斑最小最園，其餘斑點明銳，此時中間鏡物面與物鏡背焦面相重合。 5. 減弱第二聚光鏡電流，使投影到樣品上 的入射束散焦（近似平行束），攝照（30s左右）